有客戶(hù)反映，發(fā)現(xiàn)反滲透純水設(shè)備在使用期間，產(chǎn)水量越來(lái)越少，下降速度很快，咨詢(xún)?cè)撛趺崔k？出現(xiàn)這種情況，需要查明其中的原因，對(duì)癥。
君浩環(huán)保根據(jù)多年的運(yùn)行經(jīng)驗(yàn)，得出以下幾點(diǎn)原因，并列出相對(duì)的解決辦法，希望可以幫助到大家。
反滲透純水設(shè)備產(chǎn)水量下降原因分析：
1、發(fā)生膜組件的壓密；
2、膜組件數(shù)量的減少；
3、運(yùn)轉(zhuǎn)溫度的下降；
4、在運(yùn)轉(zhuǎn)中反滲透設(shè)備壓差上升；
5、金屬氧化物和污濁物附著在膜面上；
6、低壓力運(yùn)轉(zhuǎn)；
7、油分的混入；
8、在較高的回收率條件下運(yùn)轉(zhuǎn)。
反滲透純水設(shè)備
反滲透純水設(shè)備產(chǎn)水量下降解決方法：
1、當(dāng)在高過(guò)基準(zhǔn)壓力的條件下運(yùn)轉(zhuǎn)就會(huì)發(fā)生膜組件的壓密現(xiàn)象，需要時(shí)更換膜組件；
2、按照設(shè)計(jì)的膜組件數(shù)量正常運(yùn)行；
3、按照設(shè)計(jì)溫度達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)25℃運(yùn)行；
4、改進(jìn)水處理設(shè)備的運(yùn)行管理，改進(jìn)進(jìn)反滲透水質(zhì)用藥品對(duì)于膜組件進(jìn)行清洗。
5、每天進(jìn)行低壓沖洗；
6、按照設(shè)計(jì)的基準(zhǔn)壓力標(biāo)準(zhǔn)調(diào)試運(yùn)行；
7、注意油物質(zhì)不可以進(jìn)入給水更換膜組件；
8、在75﹪以上回收率條件下運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，濃水的水量減少，膜組件內(nèi)水的濃縮倍率就會(huì)上升，造成給水水質(zhì)嚴(yán)重下降。由于這種給水的滲透壓上升，導(dǎo)致透過(guò)水量的減少。嚴(yán)重的時(shí)候，將在膜面上析出鹽垢。所以須按照設(shè)計(jì)回收率產(chǎn)水。

1.電子工業(yè)超純水概述
半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線(xiàn)寬越窄，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。
2.制備電子工業(yè)超純水的工藝流程
采用反滲透設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?
其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)
3.電子工業(yè)超純水的應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水 
超純材料和超純化學(xué)試劑勾兌用超純水； 
光學(xué)玻璃鍍膜、光電子及光纖 
超純材料和超純化學(xué)試劑 
汽車(chē)、家電表面拋光處理；
光電子產(chǎn)品；
其他高科技精微產(chǎn)品；
4設(shè)備特點(diǎn)： 
按需定制，柔性生產(chǎn) 
技術(shù)，品質(zhì)穩(wěn)定 
占地節(jié)省，維護(hù)簡(jiǎn)易

生產(chǎn)應(yīng)用原理?了解他們的工作原理才能的更好的實(shí)行操作。超純水設(shè)備的工作過(guò)程通過(guò)交換羥基離子或氫氧根離子去除不想要的離子，然后將這些離子輸送到廢水流中。離子交換反應(yīng)在組件的純化室中進(jìn)行，在那里陰離子交換樹(shù)脂釋放出氫氧根離子(OH-)而從溶解鹽(如氯化物、Cl-)中獲得陰離子。同樣，陽(yáng)離子交換樹(shù)脂釋放出氫離子(H+)而從溶解鹽中(如鈉、Na+)獲得陽(yáng)離子。
一個(gè)直流(DC)電場(chǎng)通過(guò)放置在組件一端的陽(yáng)極(+)和陰極(-)施加。電壓驅(qū)動(dòng)這些被吸收的離子沿著樹(shù)脂球的表面移動(dòng)，然后穿過(guò)薄膜進(jìn)入濃水室。帶負(fù)電的陰離子(如OH-、Cl-)被吸引到陽(yáng)極(+)。這些離子穿過(guò)陰離子選擇性薄膜，進(jìn)入相鄰濃水室，而不會(huì)穿過(guò)相鄰的陽(yáng)離子選擇性薄膜并滯留在濃水室，而且得以妥善處理。
在淡水室中帶正電的陽(yáng)離子(如H+、Na+)被吸引到陰極(-)。這些離子穿過(guò)陽(yáng)離子選擇性薄膜進(jìn)入臨近的濃水室，他們?cè)谀抢锉慌R近的陰離子選擇性薄膜阻擋，同時(shí)得以妥善處理。
在濃水室中EDI，仍然維持電中性。從兩個(gè)方向輸送過(guò)來(lái)的離子彼此相互中和。從電源流過(guò)來(lái)的電流跟移動(dòng)離子的數(shù)目成比例。兩股水流(H+和OH-)趨勢(shì)離子都被輸送并且被加到所要求的電流之中。水流流過(guò)兩種不同類(lèi)型的腔體，純化室中的離子就會(huì)耗盡，同時(shí)被收集到鄰近的濃水流之中，這就從組件中帶走了被去除的離子。
在純化室和(或)濃水室中使用離子交換樹(shù)脂是EDI技術(shù)和的一個(gè)關(guān)鍵。在純化室中還會(huì)發(fā)生一個(gè)重要現(xiàn)象，在電勢(shì)梯度高的特定區(qū)域，電化學(xué)"分解"能夠使水產(chǎn)生大量的H+和OH-離子。這些區(qū)域中產(chǎn)生的H+和OH-離子在混合的離子交換樹(shù)脂中可以使樹(shù)脂不斷再生，并且形成不需要外加化學(xué)試劑的薄膜。

工廠(chǎng)用純化水設(shè)備操作注意事項(xiàng)
1、不是水處理設(shè)備的操作人員一律不能進(jìn)出水處理車(chē)間。
2、嚴(yán)格禁止未經(jīng)過(guò)培訓(xùn)的人員隨便竄崗，時(shí)刻注意設(shè)備的運(yùn)行狀態(tài)。
3、設(shè)備的操作人員必需每天調(diào)整好運(yùn)行的壓力、、水質(zhì)、開(kāi)機(jī)、停機(jī)、清洗時(shí)間的項(xiàng)目記錄。
4、不允許故障運(yùn)行，一經(jīng)發(fā)現(xiàn)異常，應(yīng)暫停運(yùn)行并告知主管，有的維修人員負(fù)責(zé)排除故障。
純化水設(shè)備
5、活性過(guò)濾器開(kāi)機(jī)時(shí)先開(kāi)下排閥，再開(kāi)進(jìn)水閥。
6、纖維球過(guò)濾器再開(kāi)機(jī)時(shí)，先打開(kāi)相應(yīng)的反洗閥，反洗至水質(zhì)合格后在開(kāi)啟進(jìn)出水閥，投入運(yùn)行。
7、阻垢劑在開(kāi)機(jī)前必須檢查是否滿(mǎn)足工作時(shí)的需要數(shù)量，達(dá)不到要求應(yīng)補(bǔ)加阻垢劑，之后再開(kāi)機(jī)運(yùn)行。
8、打開(kāi)增壓泵進(jìn)水閥，啟動(dòng)電源同時(shí)打開(kāi)保安過(guò)濾器排氣閥，觀(guān)察出水水質(zhì)和壓力時(shí)候符合RO反滲透裝置的進(jìn)水要求。
9、要嚴(yán)格按照使用所明書(shū)進(jìn)行清洗、維護(hù)、保養(yǎng)。
10、遇到嚴(yán)重故障時(shí)，應(yīng)當(dāng)果斷關(guān)閉開(kāi)關(guān)，確認(rèn)故障排除后可解鎖并重新運(yùn)行設(shè)備。
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