一、設(shè)計(jì)原理：
1．原 水：深井水或市政自來水。
2. 原水水質(zhì)報(bào)告：見原水檢驗(yàn)報(bào)告書。
3. 系統(tǒng)設(shè)計(jì)進(jìn)水參數(shù)：
水壓≥3.0kg    管路直徑為：≥DN50     水通量 ：≥18噸/小時(shí)
4、系統(tǒng)產(chǎn)水參數(shù)：
一級(jí)RO出水水量≥9噸/小時(shí)　       二級(jí) RO出水水量≥6 噸/小時(shí)
5、出水水質(zhì)：
反滲透設(shè)備出水電導(dǎo)率≤10μS/cm，出水符合瓶（桶）裝飲用純凈水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)
GB/T17324-2003
6．系統(tǒng)配置： 預(yù)處理系統(tǒng)→雙級(jí)反滲透系統(tǒng)→臭氧殺菌系統(tǒng)→灌裝線系統(tǒng)
7．運(yùn)行方式：全自動(dòng)控制運(yùn)行。
8．設(shè)計(jì)界線：從原水箱出口至灌裝線。
9．其他涉及的設(shè)計(jì)基礎(chǔ)條件將在技術(shù)討論中確定。
10.地基要求：地基承載力≥5噸/平方。
11.廢水處理：排至設(shè)備就近下水管道/地溝（用戶考慮）。
12.系統(tǒng)要求水溫：5—25度。
13.設(shè)備周圍環(huán)境要求溫度：5—40度。
14．設(shè)備占地面積：100—200平方米。
15．設(shè)備現(xiàn)場(chǎng)排水預(yù)埋地漏、地溝；原水進(jìn)水管道及閥門；設(shè)備所需總配電柜；屋內(nèi)照               明等由設(shè)備供應(yīng)方設(shè)計(jì)，設(shè)備需求方按要求做到位。
16、設(shè)備所有室內(nèi)地面需做自流地坪，墻面：灌裝間、風(fēng)淋室及更衣室按國(guó)家水廠無(wú)菌室制作要求來做，其余室內(nèi)墻面只需貼瓷磚。
二、系統(tǒng)工藝流程：
原水→原水箱→原水增壓泵→石英砂過濾器→活性碳過濾器→阻垢劑添加系統(tǒng)→5微米精密過濾器  → 一級(jí)反滲透系統(tǒng)→中間水箱→二級(jí)反滲透系統(tǒng)→臭氧殺菌系統(tǒng)→純水箱→純水供水泵→灌裝線
三、主要工藝流程設(shè)備的說明：
1、 預(yù)處理部分：
預(yù)處理就是通過過濾、吸附、交換等方法使反滲透進(jìn)水達(dá)到以下要求，實(shí)現(xiàn)以下目的：
（1）防止反滲透膜面結(jié)垢（包括CaCO3、CaSO4、SrSO4、CaF2、SiO2、鐵鋁氧化物等）；（2）防止膠體物質(zhì)及懸浮固體微粒對(duì)反滲透膜的污堵；
（3）防止有機(jī)物質(zhì)的對(duì)反滲透膜的污堵和降解；
（4） 防止微生物對(duì)反滲透膜的污堵；
（5）防止氧化性物質(zhì)對(duì)反滲透膜的氧化破壞；
2、預(yù)處理系統(tǒng)的組成及設(shè)計(jì)原因：
（1）設(shè)計(jì)組成:原水中含有多種雜質(zhì)，如懸浮物、膠體、有機(jī)物和無(wú)機(jī)物。為去除水中的懸浮物、膠體、有機(jī)物等，原水預(yù)處理部分設(shè)置有：多介質(zhì)過濾器（主要濾料有粒徑不同大小的凈水石英砂組成）、活性炭、樹脂軟化罐、5微米保安濾器等裝置。
（2）設(shè)計(jì)原因：預(yù)處理系統(tǒng)是根據(jù)原水水質(zhì)報(bào)告數(shù)據(jù)分析，結(jié)合公司多年實(shí)際經(jīng)驗(yàn)，在保證設(shè)備運(yùn)行中：科學(xué)、安全可靠的前提下得出的結(jié)論。反滲透進(jìn)水水質(zhì)要求污染指數(shù)（SDI）≤4，濁度＜1NTU，余氯＜0.1mg/L，含量TBC＜10個(gè)/mL。水質(zhì)的好壞直接影響反滲透水處理設(shè)備的可靠性與安全性。
3、預(yù)處理分項(xiàng)功能說明：
（1） 原水箱、原水泵：
反滲透系統(tǒng)要求進(jìn)水合格、壓力穩(wěn)定，屬于分批式供水。原水箱、原水泵用來提供足夠的進(jìn)水和壓力及保證系統(tǒng)的運(yùn)行穩(wěn)定。
（說明：原水泵≧18噸/小時(shí)、壓力≧3kg，兩個(gè)參數(shù)必須同時(shí)滿足）。
（2）多介質(zhì)過濾器主要功能：
其主要作用是去除粒度大于20微米的機(jī)械雜質(zhì)、經(jīng)過混凝的小分子有機(jī)物和部分膠體，使出水濁度小于0.5NTU，含鐵量小于0.05mg/L,  SDI≤5.
此系統(tǒng)設(shè)有全自動(dòng)過濾閥頭、廠商為美國(guó)Fleck，能根據(jù)原水水質(zhì)條件來設(shè)定：
正洗和反洗的周期時(shí)間；能夠徹底的把原水中顆粒性物質(zhì)及泥沙下來、再
定期反沖洗把每天運(yùn)行時(shí)所截留的淤泥、懸浮物等雜質(zhì)排除罐外，重新恢復(fù)濾料的
功能及延長(zhǎng)其使用壽命；有效的保證下道工序進(jìn)水要求。
（3）活性炭的主要功能 ：
反滲透設(shè)備要求進(jìn)水的余氯含量小于0.1mg/l，因此采用活性炭濾器脫除原水中的余氯，防止反滲透膜受到污染。同時(shí)可以進(jìn)一步吸附原水中的有機(jī)物?；钚蕴繛V器內(nèi)填精制耶殼型活性炭，用于吸附原水中的余氯、有機(jī)物、部分色素和有害物質(zhì)，降低化學(xué)耗氧量COD?；钚蕴勘粡V泛應(yīng)用于生活用水及食品工業(yè)、化工等工業(yè)用水的凈化，由于活性炭的比表面積很大，其表面又布滿了平均為20—30埃的微孔，因此，活性炭具有很高的吸附能力。此外，活性炭的表面有大量的羥基和羧基等官能團(tuán)，可以對(duì)各種性質(zhì)的有機(jī)物質(zhì)進(jìn)行化學(xué)吸附，以及靜電引力作用，因此，活性炭還能去除水中腐殖酸、富維酸、木質(zhì)磺酸等有機(jī)物質(zhì)，還可去除象余氯一類對(duì)反滲透膜有害的物質(zhì)，防止反滲透膜被氧化。通常能夠去除63%—86%膠體物質(zhì)，50%左右的鐵，以及47—60%的有機(jī)物質(zhì)。 活性炭脫出余氯的過程是一個(gè)簡(jiǎn)單的氧化還原過程。此過程有可能使活性炭破碎，但破碎的活性炭并不影響脫出余氯的效果，因此活性炭脫出余氯的效果非常強(qiáng)。

反滲透凈水設(shè)備是將原水經(jīng)過精細(xì)過濾器、顆?；钚蕴歼^濾器、壓縮活性碳過濾器等，再通過泵加壓，利用孔徑為1/10000μm（相當(dāng)于大腸大小的1/6000，的1/300）的反滲透膜（RO膜），使較高濃度的水變?yōu)榈蜐舛人?，同時(shí)將工業(yè)污染物、重金屬、、等大量混入水中的雜質(zhì)全部隔離，從而達(dá)到飲用規(guī)定的理化指標(biāo)及衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)，產(chǎn)出至清至純的水，是人體及時(shí)補(bǔ)充水份的選擇.由于RO反滲透技術(shù)生產(chǎn)的水純凈度是目前人類掌握的一切制水技術(shù)中的，所以人們稱這種產(chǎn)水機(jī)器為反滲透純凈水機(jī)。
反滲透是一種現(xiàn)代新型的純凈水處理技術(shù)。通過反滲透元件來提高水質(zhì)的純凈度，清除水中含有的雜質(zhì)和鹽。我們?nèi)粘Ｋ玫募儍羲际墙?jīng)過反滲透設(shè)備處理的，水質(zhì)清澈。
工藝流程
1、原水(深井水)——原水箱——原水增壓泵——多介質(zhì)過濾器——活性炭過濾器——樹脂軟化系統(tǒng)(或加藥系統(tǒng)、PH值調(diào)節(jié)系統(tǒng))——5微米精密過濾器——反滲透主機(jī)系統(tǒng)——臭氧殺菌系統(tǒng)——純凈水箱——灌裝線(或用水點(diǎn))
2、 市政自來水——多介質(zhì)過濾器——活性炭過濾器——樹脂軟化系統(tǒng)(或加藥系統(tǒng)、PH值調(diào)節(jié)系統(tǒng))——5微米精密過濾器——反滲透主機(jī)系統(tǒng)——臭氧殺菌系統(tǒng)——純凈水箱——灌裝線(或用水點(diǎn))
主要用途
⒈制取電子工業(yè)生產(chǎn)如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計(jì)算機(jī)硬盤、集成電路?芯片、單晶硅半導(dǎo)體等工藝所需的純水、高純水；
⒉制取熱力、火力發(fā)電鍋爐，廠礦企業(yè)中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水；
⒊制取工業(yè)所需的大輸液、劑、藥劑、生化制品純水、無(wú)菌水及透析用純水等；
⒋制取飲料（含酒類）行業(yè)的飲用純凈水、蒸餾水、礦泉水，酒類釀造水和勾兌用純水；
⒌海水、苦咸水制取生活用水及飲用水；
⒍制取電鍍工藝用去離子水；電池（蓄電池）生產(chǎn)工藝的純水；汽車、家用電器、建材產(chǎn)品
表面涂裝、清洗沌水；鍍膜玻璃用純水；紡織印染工藝所需的除硬除鹽水；
⒎石油化工業(yè)如化工反應(yīng)冷卻水；化學(xué)藥劑、化肥及精細(xì)化工、化妝品制造過程用工藝純?水；
⒏賓館、樓宇、社區(qū)機(jī)場(chǎng)房產(chǎn)物業(yè)的供水網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)及游泳池水質(zhì)凈化；
⒐線路板、電鍍、電子工業(yè)廢水處理及回用；
⒑生活、、制革、印染、造紙工業(yè)廢水及垃圾滲瀝液的處理；

貴州超純水設(shè)備，不銹鋼超純水設(shè)備產(chǎn)水后消毒處理的方法有哪些？
為了保護(hù)人體健康，防止水致病的傳播，必須對(duì)不銹鋼超純水處理后用于飲用的水中致病微生物加以控制。原則上，熱法和膜法兩種純水處理工藝的產(chǎn)水基本都不含有微生物，但是，在超純水的儲(chǔ)存或管網(wǎng)配送中水可能受到二次污染。因此，出于安全考慮，不管是熱法還是膜法生產(chǎn)出來的超純水，都必須進(jìn)行消毒。超純水后處理消毒的一般原則類似于飲用水的消毒。
消毒工藝是指將水體中的病原微生物滅活，使之減少到可以接受的程度。人體內(nèi)致病微生物主要包括病菌、原生動(dòng)物胞囊、等。
水的消毒方法很多，可大致歸納為物理法和化學(xué)法。物理法消毒主要是利用加熱、紫外線等物理手段破壞微生物體內(nèi)的酶系統(tǒng)或DNA進(jìn)行微生物滅活。但由于成本較高、操作困難、不具備持續(xù)殺菌能力等原因在應(yīng)用上受到了一定限制?；瘜W(xué)法是目前使用廣泛、效果的一種消毒方法。它是通過向水中投加化學(xué)藥劑破壞微生物壁和體內(nèi)的酶系統(tǒng)對(duì)微生物進(jìn)行滅活和控制。
理想的消毒劑需要具備的主要特點(diǎn)如下：
(1)、不但殺菌效率高，而且具有持續(xù)殺菌能力。
消毒劑殺菌只有，才能保證在用量有限的條件下短時(shí)間內(nèi)滅活微生物。此外，由于許多微生物具有在環(huán)境不適宜的條件下形成芽孢或胞囊的能力，一旦環(huán)境改善后會(huì)再度萌發(fā)和繁殖，因此消毒劑的持續(xù)殺菌能力非常重要。
(2)、安全、不產(chǎn)生有毒副產(chǎn)物。
消毒劑用于殺菌的投放濃度必須對(duì)人體不產(chǎn)生危害，也不產(chǎn)生其他的有毒副產(chǎn)物。消毒經(jīng)濟(jì)、有效、使用方便，有上百年的應(yīng)用歷史。但自20世紀(jì)70年代人們發(fā)現(xiàn)受污染水源經(jīng)氯化消毒后會(huì)產(chǎn)生(THMs)等致物，對(duì)消毒所產(chǎn)生的有毒副產(chǎn)物的評(píng)價(jià)便引起了人們廣泛重視。目前，雖然仍是應(yīng)用廣泛的一種消毒方法，但其他消毒方法也日益受到重視。
(3)、容易生產(chǎn)，儲(chǔ)運(yùn)方便，成本低廉。
目前用于飲用水消毒常用的消毒劑是各種形式的氯(如、次等)，因?yàn)槁茸鳛橄緞┑男适枪J(rèn)的，而且氯在消毒過程中在淡化水中產(chǎn)生的消毒副產(chǎn)物的前體濃度也較低。其他的消毒劑如氯胺或二氧化氯可作為次要消毒劑，而臭氧或紫外線照射，可以與氯胺結(jié)合使用，以控制微生物在特定情況下的再生長(zhǎng)。這些工藝成本相對(duì)較高，效果也不是很好，但沒有殘留效應(yīng)。

水質(zhì)：出水水質(zhì)>15MΩ.cm
用途:半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。  超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
    半導(dǎo)體（semiconductor），指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體材料很多，按化學(xué)成分可分為元素半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導(dǎo)體；化合物半導(dǎo)體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態(tài)半導(dǎo)體外，還有非晶態(tài)的玻璃半導(dǎo)體、有機(jī)半導(dǎo)體等。
光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備，我們公司生產(chǎn)反滲透＋EDI超純水設(shè)備，有多年的生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，做過各行業(yè)的水處理設(shè)備，水處理方面我們有豐富的經(jīng)驗(yàn)。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備制備工藝：
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(diǎn)（≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝) 
  　 2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級(jí)反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(diǎn)（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點(diǎn) （≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備出水水質(zhì)符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國(guó)電子工業(yè)超純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備，超純水設(shè)備，超純水處理設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域：
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,硅片超純水設(shè)備
電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水；
生產(chǎn)液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產(chǎn)中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片；
半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗；
顯像管、螢光粉生產(chǎn)；
汽車、家電表面拋光處理。
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